2016年3月8日(火)
第3回 フォトニクスイノベーションセミナー
本年10月、NEDOの支援の下、フォトニクスイノベーション共創プログラムが 東京大学で発足しました。このプログラムでは、関連分野の人材育成への 貢献を目的に、セミナーをはじめとする各種の企画を実施してきています。この度、シリコンフォトニクス分野でご活躍の和田一実先生をお迎えして、第三回フォトニクスイノベーション セミナーを開催いたしました。
| 開催日 | 2016年3月8日(火) |
|---|---|
| 開催場所 | 東京大学生産技術研究所An棟 中セミナー室１（An401・402） アクセス https://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html キャンパスマップ https://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/campusmap.html |
| 主催 | 東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構 |
| 共催 | 国立研究開発法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO） 技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所（PETRA） |
| 協賛 | 一般財団法人 光産業技術振興協会（OITDA） |
| 参加費 | 無料 |
対象
光技術者および関係の社会人、大学院・学部学生
プログラム
13:30 趣旨説明
荒川泰彦（東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構 機構長）
13:40 講義
「シリコンフォトニクスの現状と展望」
和田和美（東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻）
15:10 討論
15:40 閉会